真空(kōng)光譜學

在真空(kōng)環境下對高(gāo)速等離子體(tǐ)鍍層過程反射率的實時(shí)監測是光譜學測量的一項應用。

Avantes對在真空(kōng)環境下測量有(yǒu)着豐富的經驗，并提供各種儀器(qì)和(hé)配件以滿足真空(kōng)光譜學的需要。這些(xiē)技術經常用于點檢測等複雜的過程控制(zhì)監控。可(kě)以對一個(gè)峰值或一定的波長範圍進行(xíng)監測，以檢測出一個(gè)在過程結束時(shí)光譜偏移帶來(lái)的拐點。在進行(xíng)高(gāo)真空(kōng)(~10-3 torr)和(hé)超高(gāo)真空(kōng)(~10−9 torr)測量時(shí)，需要特别注意所選用的光譜儀和(hé)光纖。Avantes對在真空(kōng)環境下測量有(yǒu)着豐富的經驗，并提供各種儀器(qì)和(hé)配件以滿足真空(kōng)光譜學的需要。

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