熒光光譜儀的靈敏度、精度及分析速度是至關重要

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　　熒光光譜儀的分析方法是一個(gè)相對分析方法，任何制(zhì)樣過程和(hé)步驟必須有(yǒu)非常好的重複操作(zuò)可(kě)能性，所以用于制(zhì)作(zuò)标準曲線的标準樣品和(hé)分析樣品必須經過同樣的制(zhì)樣處理(lǐ)過程。X射線熒光實際上(shàng)又是一個(gè)表面分析方法，激發隻發生(shēng)在試樣的淺表面，必須注意分析面相對于整個(gè)樣品是否有(yǒu)代表性。此外，熒光光譜儀樣品的平均粒度和(hé)粒度分布是否有(yǒu)變化，樣品中是否存在不均勻的多(duō)孔狀态等。樣品制(zhì)備過程由于經過多(duō)步驟操作(zuò)，還(hái)必須防止樣品的損失和(hé)沾污。

　　在工業過程控制(zhì)分析中，熒光光譜儀的靈敏度、精度及分析速度是至關重要的。SPECTROiQII在這一領域已建立了相應标準。的SPECTROiQII在此基礎上(shàng)進一步改進了技術，提高(gāo)了操作(zuò)簡便性和(hé)可(kě)靠性。

　　在許多(duō)情況下，熒光光譜儀在測定主要成分的精度及重要痕量元素的靈敏度可(kě)以同價格昂貴的波長色散型X熒光光譜儀相媲美。以往隻能用波長色散型X熒光光譜儀完成的分析任務，現在通(tōng)過SPECTRO*的偏振能量色散型儀器(qì)即可(kě)地完成。

　　X射線是一種電(diàn)磁輻射，其波長介于紫外線和(hé)Y射線之間(jiān)。熒光光譜儀的波長沒有(yǒu)一個(gè)嚴格界限，一般來(lái)說是指波長為(wèi)0.001-50nm的電(diàn)磁輻射。對分析化學家(jiā)來(lái)說，感興趣的波段是0.01-24nm，0.01nm左右是超鈾元素的k系譜線。1923年赫維西（Hevesy.G.Von）提出了應用X射線熒光光譜進行(xíng)定量分析，但(dàn)由于受到當時(shí)探測技術水(shuǐ)平的限制(zhì)該法并未得(de)到實際應用，直到20世紀40年代後期，随着X射線管、分光技術和(hé)半導體(tǐ)探測器(qì)技術的改進，X熒光分析才開(kāi)始進入蓬勃發展的時(shí)期，成為(wèi)一種極為(wèi)重要分析手段。

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